此前有報道稱，近期臺積電（TSMC）首席執(zhí)行官魏哲家訪問了ASML的總部，同時也拜訪了激光供應商Trumpf，與對方的高層會面。臺積電似乎改變了之前對High-NA EUV光刻技術的一些看法，或許會加快引入新技術和新設備的步伐。

據(jù)Wccftech報道，ASML發(fā)言人Monique Mols向媒體提及，ASML首席財務官Roger Dassen已確認今年年底前將向英特爾和臺積電運送兩臺High-NA EUV光刻機。受到該消息刺激，ASML的股價在今天開盤后大漲，美東時間6月5日收盤時上漲了9.52%。

由于英特爾在購買High-NA EUV光刻機方面表現(xiàn)得相當積極，新設備出現(xiàn)時已搶先下單，并在去年末接收了業(yè)界首臺商用High-NA EUV光刻機，前一段時間已完成組裝工作。傳聞英特爾已經(jīng)獲得了明年上半年之前生產(chǎn)的大部分High-NA EUV光刻機，所以選擇繼續(xù)接收屬于正常操作。真正讓人感到意外的是臺積電，要知道不久之前，臺積電高層還在否定短期內(nèi)引入High-NA EUV光刻機的做法，認為設備過于昂貴，A16制程工藝的公布一定程度上也印證了這種想法。

隨著ASML證實了臺積電將在今年引入High-NA EUV光刻機，已經(jīng)有媒體聯(lián)系了臺積電了解相關情況，不過得到的答復是屬于與供應商之間的密切合作，似乎現(xiàn)階段不想做太多的回應。據(jù)了解，三星和SK海力士明年也將得到High-NA EUV光刻機，預計在2025年下半年。

此前有報道稱，一臺High-NA EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是EUV（約1.83億美元）的兩倍多，目前ASML每年High-NA EUV光刻機的產(chǎn)能大概在5到6臺，收到的訂單數(shù)量在10至20臺之間。