近日，343 Industries公開了《光環(huán)：無限》的第二名新反派角色Jega 'Rdomnai和士官長超級戰(zhàn)士護甲Mark VII。

第二名新反派角色Jega

在放逐者的低聲私語中，總是小心翼翼地提起Jega 'Rdomnai 的名字。光劍大師的歷史籠罩在謠言和似真似假的片面事實中。有人說他是個實驗，是對同類的侮辱。其他人則提到了他在一次秘密的埋伏擊出了問題。知道真相的人寥寥無幾，仍在談論真相的人更少。有一件事是肯定的，他以前曾獵殺過惡魔，是第一個被Atriox 所歡迎的新兵，他將再次這么做。

新反派Jega 'Rdomnai概念圖

Jega是一名神秘且飽受戰(zhàn)爭蹂躪的精英（Sangheili）戰(zhàn)士，他將是玩家在《光環(huán)：無限》戰(zhàn)役中會遇到的幾個新角色之一。

超級戰(zhàn)士護甲Mark VII

《光環(huán)：無限》的新美術走向借鑒了經典和現代元素，提供了將Mjolnir平臺再次向前推進的機會，開創(chuàng)了GEN3動力突擊護甲的時代，這是在Official Spartan Field Manual中首次暗示的。引領新一代產品的是Mark VII，它是多年來秘密組件測試并同時進行系統(tǒng)開發(fā)的結果。

最初主要由超級戰(zhàn)士Naomi-010 進行測試，GEN1 Mark VII 組件套件一次又一次地改進，并在GEN2 DECIMATOR-class Mjolnir 上進行進一步測試。最終，這些努力將與戰(zhàn)備集團（Materials Group）內部的并行項目相吻合，最終造就了GEN3 Mark VII，旨在為最新的超級戰(zhàn)士特遣隊配備最先進的作戰(zhàn)科技。

盡管這確實代表了Mjolnir 平臺對于積極部署的超級戰(zhàn)士來說是一個新的躍進，但由于不穩(wěn)定或成本因素，一些用GEN1 和GEN2 Mark VII 測試的元件仍處于原型階段，例如整合了先行者衍生的納米機械元件和完整的護盾塑造。

超級戰(zhàn)士護甲Mark VII概念圖

最新的Mark VII 反覆刷新是由Halsey 博士親自打造的，透過在神經介面、護盾發(fā)射器、融合能和護甲配方等方面的突破，重繪了Mjolnir 的科技架構。

Mark VII 的名稱是指許多原型平臺，用于測試不斷發(fā)展的Mjolnir 第3 代規(guī)格。Halsey 博士從戰(zhàn)備集團的KEYSTONE 開發(fā)計畫中選出了這個名字的最新設計。

《光環(huán)：無限》預計在2021年發(fā)售，登陸PC、Xbox Series X和XboxOne。